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高耐圧アナログプロセス

最先端の高耐圧アナログプロセス(BiCD 130 nm)を採用し、低耐圧の制御回路と高耐圧出力DMOSのモノリシック構造を実現しました。これにより、最大定格84 Vといった高耐圧製品においても小型パッケージWQFN48(7 mm × 7 mm)が採用可能となり、実装面積の削減が可能です。

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