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ショットキー接合は金属の仕事関数Φmに比べ小さい仕事関数Φnを持つn型半導体(またはp型半導体)と金属を接触させたときの接合状態を指します。この接合はショットキーダイオードに使用されます。n型半導体と金属を用いたショットキー接合のエネルギーバンド図を示します。
エネルギーレベルの高い半導体の伝導帯側から金属側に電子が移動します。これにより半導体側にのみ空乏層が広がります。pn接合と同様にフェルミ準位は一致します。平衡状態では、金属側からみて金属の仕事関数Φm からn型半導体の仕事関数Φnを引いた拡散障壁VD = Φm – χn が接合面にあります。
フェルミ分布に従いn型半導体側の自由電子は分布し、この障壁を超える電子は金属側に流れ込みます。
金属側から見た障壁は外部から電圧を加えても変わりませんが、半導体側から見た障壁は印加電圧分シフトします。このシフトによりショットキーバリアダイオードを流れる電流が変化します。